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清洗晶圓的等離子清洗機相比其他等離子清洗機的差別
來源:
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作者:深圳金徠
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發(fā)布時間: 2021-06-26
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清洗晶圓的等離子清洗機相比其他等離子清洗機的差別
1、等離子清洗晶圓是在千級以上的無塵室中進行的，對微顆粒的要求極高，任何超標的微顆粒存在，都會造成晶圓不可挽回的缺陷。所以設計等離子清洗機的腔體首先一定要是鋁質，而不是不銹鋼材質；擺放晶圓的托架滑動部分，要盡量采用不容易產(chǎn)生粉塵和被等離子腐蝕的材料；電極和托架方便拆卸，便于日常維護。
2、 等離子清洗機反應腔體內的電極間距和層數(shù)，以及氣路分布，對于晶圓處理的均勻性都重大的影響，這些指標都需要不斷試驗來優(yōu)化。
3、等離子清洗晶圓的過程中，會產(chǎn)生一定的熱量累積，處于工藝的需要，維持電極板的溫度在一定范圍是必要的，所以通常會給等離子清洗機的電極加上水冷。
4、 多層電極的等離子清洗機產(chǎn)能比較高，可以根據(jù)需要每一層托架上擺放多片晶圓，比較適合于半導體分立器件、電力電子元器件專用4寸及6寸晶圓的光刻底膜去除等。
上述所講解的就是清洗晶圓的等離子清洗機相比其他等離子清洗機的差別，希望看完能夠對您有所幫助，如果您想要了解更多關于等離子清洗機的相關信息，歡迎繼續(xù)瀏覽深圳金徠網(wǎng)站！